德国Hellma材料CaF2晶体的特点

　　德国Hellma材料的CaF（氟化钙）晶体是一种高性能光学材料，具有从深紫外到红外波段的高宽带透射率、低折射率、低光谱色散、出色的激光耐久性和抗辐照能力，广泛应用于精密光学、半导体制造、天文观测、激光技术及科研医疗等领域。
　　一、核心参数与关键性能（Lithotec系列）
　　参数项    数值    应用价值
　　透射波段    130nm–8μm（深紫外至红外）    覆盖准分子激光、红外光学全链路
　　折射率（nd）    1.43384    低光学损耗，适配精密光学系统
　　阿贝数（vd）    95.23    低色散，减少色差，适合光刻/激光系统
　　折射率均匀性    <5ppm    确保光束一致性，满足微光刻高精度要求
　　晶体结构    立方晶系，(111)解理面    易定向切割，适配不同光学设计
　　热导率    9.71W/(m·K)    快速散热，适配高功率激光场景
　　激光耐久性    157/193/248nm高抗损伤    准分子激光光刻长期稳定使用
　　二、核心光学特性
　　高宽带透射率
　　透光范围覆盖130nm（深紫外）至8μm（红外），部分资料显示可达9μm，甚至10μm，满足真空紫外（VUV）、深紫外（DUV）、可见光及红外（IR）等多波段需求。
　　在193nm（深紫外光刻）波长下，内透过率超过99.3%/cm，应力双折射小于5nm/cm，确保光刻机物镜系统的精度。
　　低折射率与低色散
　　折射率nd=1.43384，阿贝数vd=95.23，低色散特性使其在色校正光学系统中（如天文望远镜、高清镜头）能显著提升成像质量。
　　激光耐久性
　　对157nm、193nm、248nm等准分子激光波长具有优异耐受性，适用于光刻激光光学器件和光束传输系统，延长组件寿命。
　　抗辐照与耐环境性
　　抵抗高能粒子辐射，适用于航空航天等恶劣环境；大气下使用温度达600℃，真空干燥时可达800℃，机械强度高且抗潮解。
　　三、Hellma材料典型应用领域
　　半导体制造
　　作为248nm与193nm微光刻技术中照明和投影光学的行业标准材料，直接支撑45nm以下芯片制程精度。
　　天文与空间光学
　　用于高分辨率空间相机、天文望远镜的光学元件，以及天基光学器件（如卫星载荷），其低应力双折射特性确保信号传输完整性。
　　激光技术
　　激光谐振腔镜、医用激光器（如光学相干断层成像设备）的核心材料，适配193nm、248nm等准分子激光波长。
四、采购与选型要点
分级选型：按应用选 DUV 级（157-193nm）、UV 级（248nm+）、IR 级，匹配性能与成本。
附加要求：明确晶向、尺寸公差、表面粗糙度（Ra≤0.5nm）、镀膜类型（如增透膜），避免适配风险。
中国渠道：可通过汉达森等授权代理商采购，提供技术支持与售后保障。
Hellma材料的CaF（氟化钙